MatchingCube

 

Zusammen mit unseren HF-Generatoren sind die MatchingCubes geeignet für ICP- und CCP-Anlagen. Sie finden Anwendungen in RF Sputtering, Thin Film Coating, PE-CVD, Reactive Ion Etching (RIE) und Substrate Biasing.  

Die MatchingCubes sorgen für Anpassung und damit für den Leistungstransport vom HF-Generator in die Plasma-Anlage. Für kleine Leistungen verwenden wir Luftdrehkondensatoren, für große Leistungen Vakuumkondensatoren. Die MatchingCubes MCi und MCii arbeiten breitbandig. Für Breitband-Anwendungen sind sie ein optimales Gespann mit unseren Breitband-Generatoren. Die MatchingCubes können Sie entweder über eine serielle Schnittstelle oder über einen barthel HF-Generator fernsteuern. Eine Software gehört zum Lieferumfang.

 MCi-300MCi-600MCiiMCiiiMCivMCv 
Frequency Range10-5010-2050-10010-5013.5613.56MHz
Bandwidthnarrow/broadnarrow/broadnarrow/broadnarrownarrownarrow
RF Power (typ)300600300200010002000W
Input ConnectorNNNN (HV)NN (HV)
Output ConnectorNN or 7/16Ncopper strapcopper strapcopper strap
Dimensions H/W/D190x190x300190x190x300190x190x300220x210x300114x170x206130x260x335mm

Art.No.ProductFrequency [MHz]Power [W]Remarks
210052MCi-30010-50300
210053MCi-60010-20600
210055MCi-600-7/1610-20600output: 7/16
210062MCii50-100300
210100MCiii13.562000
210190MCiv13.561000no inductor
210200MCv13.562000no inductor

Weitere Modelle sind auf Anfrage erhältlich.